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工学
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电子科学与技术
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现代集成电路制造技术原理与实践
现代集成电路制造技术原理与实践
作者：
李惠军
编著
出版社：
电子工业出版社
出版时间：
2009.05
ISBN：
978-7-121-07753-1
主题：
集成电路工艺
中图法分类号：
TN405
【中图法分类】
T 工业技术
>
TN无线电电子学、电信技术
>
TN4微电子学、集成电路（IC）
【学科分类】
工学
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电子科学与技术
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简介
本书共18章，主要内容包括：硅材料及衬底制备、外延生长工艺原理、氧化介质薄膜生长、半导体的高温掺杂、离子注入低温掺杂、薄膜汽相淀积工艺、图形光刻工艺原理、掩模制备工艺原理、集成电路工艺仿真、集成结构测试图形等。
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