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集成电路(IC)制程简论
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简介
本书介绍了集成电路制程,以特征线宽130nm以下为重点,涉及集成电路制作工艺的各个方面,特别是包括短波长光源、步进与扫描照相曝光系统、CMP平坦化、双大马士革Cu布线、低-k介质材料、SoC与SiP等。
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