任何一种材料的真正应用首先要解决的就是其制备问题。目前，氧化还原及各种机械分离方法被广泛用于石墨烯粉体及浆料的制备，而大面积石墨烯薄膜的制备则主要是基于铜基底的化学气相沉积（CVD）法。这一方法是本书作者之一李雪松教授于2009年在美国德州大学奥斯汀分校Ruoff课题组从事研究工作时发明的。受益于碳在铜中极低的溶解度以及石墨烯薄膜在铜表面的自限制生长机制，这种方法很容易获得大面积高质量的石墨烯薄膜，因而被广泛使用。这不但对石墨烯材料的研究与应用起到了一定的促进作用，也为石墨烯（薄膜）的产业化奠定了基础。我国在这一领域，不论是科学研究还是产业化方面，均走在世界前列。在这一背景下，作者结合自身多年来在石墨烯薄膜制备领域的研究经验，通过对这一领域的重要成果进行梳理与总结，编撰了这本《石墨烯薄膜制备技术》。
简介
本书主要介绍基于CVD法(包括等离子增强CVD法)的石墨烯薄膜制备技术。全书共8章，第1章为石墨烯的概括性简介，以方便读者对石墨烯有一个总体的认识。第2章是对CVD技术的基础性介绍，尤其是与石墨烯薄膜制备相关的通用知识等。
