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本分册为《第三代半导体材料》。本书主要论述了III族氮化物半导体材料、SiC半导体材料、宽禁带氧化物半导体材料、半导体金刚石薄膜材料、宽禁带氧化物半导体材料等第三代半导体材料的基本性质、制备技术、相关应用，并论述了发展我国第三代半导体材料产业的战略意义和战略构思。
