作者：
出版社：
本书在简单介绍X射线衍射分析原理的基础上，重点介绍X射线衍射分析法在材料研究方面的应用。主要包括晶体学基础与X射线运动学衍射原理；现代X射线衍射仪测试原理；X射线衍射仪测量方法与分析技术；X射线衍射谱线分析与应用；X射线衍射物相分析；晶体点阵常数精确测定；宏观内应力测定；织构测定与单晶定向；Rietveld方法简介。
本书内容涉及了专利基础知识、专利的国内申请和国际申请、专利申请事务处理、专利申请文件的撰写要求、专利文件翻译、专利审查的要求、典型领域的专利特点及文件撰写等。
