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作者:

出版社:

国防工业出版社
出版时间:2011.01
ISBN:978-7-118-07120-7

本书以先进焦平面技术为主线,在扼要概括国外研究历程和技术发展趋势的基础上,着重介绍了作者近年对双色或双谱段红外焦平面芯片的数值设计、硅基碲镉汞和铝镓氮多层材料的生长工艺技术等的最新研究结果。