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本书以先进焦平面技术为主线，在扼要概括国外研究历程和技术发展趋势的基础上，着重介绍了作者近年对双色或双谱段红外焦平面芯片的数值设计、硅基碲镉汞和铝镓氮多层材料的生长工艺技术等的最新研究结果。
